特許
J-GLOBAL ID：200903019686560099
ガスハイドレート製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 信一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-044383
公開番号（公開出願番号）：特開2003-238976
出願日： 2002年02月21日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】ガスハイドレートを効率よく製造できるガスハイドレート製造装置を提供する。【解決手段】ガスハイドレート製造タンク1の下部にボイルオフガス噴出手段5を設けると共に、該ボイルオフガス噴出手段5とガスハイドレート製造タンクの上部とを連通する循環パイプ6を設ける。更に、循環パイプ6に循環ファン7を設けてガスハイドレート製造タンク1と循環パイプ6とを巡る循環流を形成すると共に、循環流によってガスハイドレート製造タンク1内で生成されたガスハイドレートcを積極的に攪拌させる。更に、ガスハイドレート製造タンク1にガスハイドレートcを冷却するガスハイドレート冷却手段9を設ける。
請求項（抜粋）：
ガスハイドレート製造タンク内に、ボイルオフガスと水とを導入してガスハイドレートを製造するガスハイドレート製造装置であって、前記ガスハイドレート製造タンクの下部にボイルオフガスを噴出するボイルオフガス噴出手段を設けるとともに、該ボイルオフガス噴出手段とガスハイドレート製造タンクの上部とを連通する循環パイプを設け、かつ、該循環パイプに循環ファンを設けて前記ガスハイドレート製造タンクと前記循環パイプとを巡る循環流を形成するとともに、該循環流によってガスハイドレート製造タンク内で生成されたガスハイドレートを積極的に攪拌させ、更に、前記ガスハイドレート製造タンクにガスハイドレートを冷却するガスハイドレート冷却手段を設けてなるガスハイドレート製造装置。
IPC (9件)：
C10L 3/06
, B01J 19/00
, C07B 61/00
, C07B 63/02
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, F17C 11/00
, F17C 13/00 302
B01J 19/00 A
, C07B 61/00 C
, C07B 63/02 B
, C07C 5/00
, C07C 7/20
, C07C 9/04
, F17C 11/00 B
, F17C 13/00 302 A
, C10L 3/00 A
3E072AA03
, 3E072EA10
, 3E073DD05
, 4G075AA03
, 4G075CA03
, 4G075CA65
, 4G075CA66
, 4G075EB01
, 4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AD40
