特許
J-GLOBAL ID：200903019714353657

窒素処理方法及び窒素処理システム

発明者：
広 直樹

広 直樹 について

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中澤 範行

中澤 範行 について

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米崎 孝広

米崎 孝広 について

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金井 大

金井 大 について

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虫明 克彦

虫明 克彦 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： 雨笠 敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050734
公開番号（公開出願番号）：特開2002-248474
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2002年09月03日
要約：
【要約】【課題】 希薄塩素イオン条件下でも効率的に低濃度の窒素化合物も除去を行うことができると共に、装置の小型化及びコストの低減を図ることができる窒素化合物の窒素処理方法を提唱する。【解決手段】 本発明は、電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物を処理する方法であって、カソード6を構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いる。また、カソード6とアノード5の間に、酸素気泡の通過を阻止し、且つ、アノード5側に流水の影響を受けない構造とすると共に、イオンの通過は許容する遮蔽部材9を配置する。
請求項（抜粋）：
電気化学的手法により被処理水中の窒素化合物を処理する方法であって、カソードを構成する金属材料として、周期表の第Ib族又は第IIb族を含む導電体、若しくは、同族を導電体に被覆したものを用いることを特徴とする窒素処理方法。
IPC (2件)：
C02F 1/461 ,  C02F 1/46 ZAB
FI (2件)：
C02F 1/46 ZAB ,  C02F 1/46 101 A
Fターム (14件)：
4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC14 ,  4D061EA04 ,  4D061EB01 ,  4D061EB04 ,  4D061EB12 ,  4D061EB19 ,  4D061EB27 ,  4D061EB28 ,  4D061EB29 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB35
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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