特許
J-GLOBAL ID:200903019752446090

パターン検査方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 作田 康夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-347443
公開番号(公開出願番号):特開2002-148027
出願日: 2000年11月09日
公開日(公表日): 2002年05月22日
要約:
【要約】【課題】ウェハに打ち込んだイオンの影響や、パターン接続の有無、パターンエッジの形状などの影響による検出画像誤差を生じることなく画像を検出すること【解決手段】本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて予め座標データで登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し、この検出した欠陥を表示するようにした又本発明によるパターン検査方法においては、対象物基板を撮像してディジタル画像を得、このディジタル画像を用いて欠陥を検出し、この検出した欠陥のうち登録した特徴に一致する欠陥の表示非表示を切替えるか他と識別可能なように表示するようにした。
請求項(抜粋):
対象物基板を撮像して該対象物基板のディジタル画像を得、該得たディジタル画像のうち予め登録した領域、又は予め登録したパターンと一致するパターンをマスクして欠陥を検出し該検出した欠陥の画像を該欠陥の前記対象物基板上の位置情報とともに出力することを検査する特徴とするパターン検査方法。
IPC (4件):
G01B 11/24 ,  G01N 21/956 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/66
FI (4件):
G01N 21/956 A ,  G06T 1/00 305 A ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 F
Fターム (54件):
2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB03 ,  2F065CC20 ,  2F065CC25 ,  2F065FF04 ,  2F065FF42 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM03 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ38 ,  2G051AA51 ,  2G051AB07 ,  2G051CA11 ,  2G051DA01 ,  2G051DA05 ,  2G051EA14 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED01 ,  2G051ED21 ,  2G051FA01 ,  2G051FA04 ,  2G051FA10 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA39 ,  4M106CA50 ,  4M106DA15 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB20 ,  4M106DB21 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ21 ,  4M106DJ23 ,  5B057AA03 ,  5B057BA03 ,  5B057BA24 ,  5B057BA26 ,  5B057DA03 ,  5B057DA04 ,  5B057DA07 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC03 ,  5B057DC04 ,  5B057DC33
引用特許:
審査官引用 (4件)
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