特許

J-GLOBAL ID：200903019806168082

ステンシルマスク、その製造方法及び露光方法

発明者： 蒲生 秀典 ,  四井 健太 ,  田村 章
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-186841
公開番号（公開出願番号）：特開2003-007590
出願日： 2001年06月20日
公開日（公表日）： 2003年01月10日
要約：

【要約】【課題】 薄膜化が容易で、応力制御を行うことが可能であるとともに、電子線照射特性の優れたステンシルマスクを提供すること。【解決手段】 基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有し、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とするステンシルマスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  C23C 16/04 ,  G03F 1/16 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

C23C 16/04 ,  G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 541 S

Fターム (14件)：

2H095BA08 ,  2H095BC05 ,  2H095BC08 ,  4K030AA01 ,  4K030AA10 ,  4K030AA13 ,  4K030BA28 ,  4K030BB03 ,  4K030CA04 ,  4K030DA05 ,  4K030FA01 ,  4K030LA11 ,  5F056AA22 ,  5F056FA05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-156726   出願人：ホーヤ株式会社
• 転写マスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-357055   出願人：ホーヤ株式会社
• ステンシル・マスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-239680   出願人：セイコーエプソン株式会社