特許

J-GLOBAL ID：200903019811428246

成膜用マスク

発明者： 曽田 岳彦
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-098118
公開番号（公開出願番号）：特開2007-270289
出願日： 2006年03月31日
公開日（公表日）： 2007年10月18日
要約：

【課題】成膜用マスクの反りによるパターン精度の劣化を防ぐ。【解決手段】成膜材料の蒸気を通すパターン13を有するマスク部11をフレーム12の片面に固定し、フレーム12の反対面に、マスク部11のパターン13に対応する開口部14aを備えたテンション部材14を、張力を加えた引張状態で固定する。マスク部11による引張応力がテンション部材14の張力によって相殺され、マスク全体の剛性が強化されるため、マスク部11の反りによるパターン精度の劣化を防ぐことができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

成膜材料の蒸気を通すパターンを有するマスク部と、前記マスク部を支持するフレームと、前記マスク部と対向する平面に沿って配設され、張力を加えて前記フレームに固着されたテンション部材と、を有することを特徴とする成膜用マスク。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (11件)：

3K107AA01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG33 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 蒸着マスク及び蒸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-118014   出願人：大日本印刷株式会社
• 蒸着マスクとその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-352701   出願人：九州日立マクセル株式会社