特許
J-GLOBAL ID：200903019832193249
光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 石田 悟
, 池田 成人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-290620
公開番号（公開出願番号）：特開2006-072280
出願日： 2004年10月01日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 光パターンの形状を制限することなく0次光を低減できる光パターン形成技術を提供する。【解決手段】 光パターンに対応する主位相パターンに、所定の波面歪みを補正する副位相パターンを足し合わせて位相パターンを作成する。平面波に波面歪みを与えて読出し光(26)を生成する。位相変調型の空間光変調器(12)に上記の位相パターンを入力するとともに、読出し光を空間光変調器に照射して、その位相パターンに応じて読出し光を位相変調する。位相変調された読出し光をレンズ(22)でフーリエ変換し、出力面(24)上に結像させる。読出し光に与えられる波面歪みによって0次光の結像度が低下し、0次光の輝度が出力面上で低減される。読出し光の0次光以外の成分に与えられる波面歪みは、副位相パターンによって補正される。これにより、出力面上における光パターンのぼけが防止される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
位相変調型の空間光変調器を用いて所望の光パターンを形成する方法であって、
前記光パターンに対応する主位相パターンに、所定の波面歪みを補正する副位相パターンを足し合わせて位相パターンを作成するステップと、
前記空間光変調器に前記位相パターンを入力し、平面波に前記波面歪みを与えて生成された読出し光を前記空間光変調器に照射して、前記読出し光を前記位相パターンに応じて位相変調するステップと、
その位相変調された読出し光を、レンズを用いてフーリエ変換し、出力面上に結像させるステップと、
を備える光パターン形成方法。
IPC (4件)：
G02F 1/061
, G02B 21/32
, G03H 1/08
, G03H 1/16
G02F1/061 503
, G02B21/32
, G03H1/08
, G03H1/16
2H052AB01
, 2H052AB17
, 2H052AC04
, 2H052AC11
, 2H052AD06
, 2H052AD13
, 2H052AF02
, 2H052AF06
, 2H052AF13
, 2H052AF14
, 2H052AF19
, 2H079AA02
, 2H079AA12
, 2H079BA03
, 2H079CA02
, 2H079DA08
, 2K008AA00
, 2K008AA08
, 2K008FF21
, 2K008FF27
, 2K008HH06
, 2K008HH26
出願人引用 (2件)
-
レーザ加工装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2000-327386
出願人：浜松ホトニクス株式会社
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光アドレス型空間光変調装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-196891
出願人：浜松ホトニクス株式会社
審査官引用 (1件)
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