特許
J-GLOBAL ID：200903019836763619
多孔体の改質処理方法およびその装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-143106
公開番号（公開出願番号）：特開平8-337676
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：
【要約】【目的】 多孔体表面および内面の改質を容易に、しかも均一に行うことができる多孔体の改質処理方法およびその装置を提供する。【構成】 本発明方法は、チャンバ内を大気圧以上とし、電圧印加電極に高周波/高電圧を印加することにより、プラズマを発生させるとともに、そのプラズマ内の活性種を多孔体の孔内に導く。また、電圧印加電極に誘電体を固着させる。また、本発明装置は、チャンバ内は大気圧以上の雰囲気であり、かつ、電圧印加電極には高周波/高電圧が印加され、多孔体の下面部分に接触した状態で多孔体を支持する複数の孔を有した支持体と、チャンバ内の雰囲気を排気するための排気手段を設ける。また、圧印加電極側には誘電体が固着されている。
請求項（抜粋）：
電圧を印加するための電圧印加電極と接地電極をチャンバ内に配設するとともに、その両電極間に多孔体を介在させた状態で上記チャンバ内に反応ガスを導入し、上記電圧印加電極に電圧を印加してプラズマを発生させることにより、上記多孔体を処理する方法において、上記チャンバ内を大気圧以上とし、上記電圧印加電極に高周波/高電圧を印加することによりプラズマを発生させるとともに、そのプラズマ内の活性種を上記多孔体の孔内に導くことを特徴とする多孔体の改質処理方法。
IPC (4件)：
C08J 9/36
, B29C 71/04
, C08J 7/00 306
, B29K105:04
C08J 9/36
, B29C 71/04
, C08J 7/00 306
