特許

J-GLOBAL ID：200903062316572015

多孔体の改質処理方法およびその装置

発明者： 森 勇藏 ,  小田 高司 ,  浦入 正勝
出願人/特許権者： 森 勇藏 ,  日東電工株式会社
代理人 (1件)： 西田 新
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-143105
公開番号（公開出願番号）：特開平8-337675
出願日： 1995年06月09日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】多孔体表面および内面の改質を容易に、しかも均一に行うことができる多孔体の改質処理方法およびその装置を提供する。【構成】電圧を印加するための電圧印加電極と接地電極を、その両電極間に、内部に複数の孔を有する多孔体を介在させた状態でチャンバ内に配設するとともに、大気圧以上としたチャンバ内に反応ガスを導入し、電圧印加電極に高周波/高電圧を印加してプラズマを発生させる方法である。また、装置は、大気圧以上としたチャンバと、反応ガス導入手段と、このチャンバ内に対向配置された電圧印加電極および接地電極と、この両電極間距離を調節するための調節手段が備えられ、電圧印加電極には高周波/高電圧が印加される。

請求項（抜粋）：

電圧を印加するための電圧印加電極と接地電極を、その両電極間に、内部に複数の孔を有する多孔体を介在させた状態でチャンバ内に配設するとともに、そのチャンバ内に反応ガスを導入し、上記電圧印加電極に電圧を印加してプラズマを発生させることにより、上記多孔体を処理する方法において、上記チャンバ内を大気圧以上とし、上記電圧印加電極に高周波/高電圧を印加することにより、上記多孔体表面および各孔の内部空間でプラズマを発生させることを特徴とする多孔体の改質処理方法。

IPC (4件)：

C08J 9/36 ,  B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306 ,  B29K105:04

FI (3件)：

C08J 9/36 ,  B29C 71/04 ,  C08J 7/00 306

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フィルターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-200512   出願人：積水化学工業株式会社
• 多孔体の改質処理方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-143106   出願人：森勇藏, 日東電工株式会社