特許
J-GLOBAL ID：200903019958331434
投影光学系及び該光学系を備えた投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-022666
公開番号（公開出願番号）：特開平8-222499
出願日： 1995年02月10日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：
【要約】【目的】 レチクル上のパターンを投影光学系を介してウエハ上に投影する投影露光装置において、所定の方向に周期性を有するパターンに対する結像特性を改善する。【構成】 投影光学系の瞳面上に、レチクルのパターンの配列方向であるX方向、Y方向に伸びた直線状のエッジを有するL字状の可動式ブレード101A,101Bからなる開口絞り16を光軸AXに対して対称的に配置する。可動式ブレード101A,101Bをそれぞれの駆動機構を介して移動させることにより開口絞り16の開口部の大きさを変化させ、円形の開口絞り22及び開口絞り16による開口部を透過する回折光の範囲を制限する。
請求項（抜粋）：
第1面上に配され所定の方向に周期性を有するパターンを第2面上に結像投影する投影光学系において、前記投影光学系内の前記第1面に対するフーリエ変換面、又はこの近傍の面上に、前記投影光学系の光軸を通り前記所定の方向に直交する方向に延びた対称軸に関して線対称であり、且つ輪郭の少なくとも一部が直線部である開口を有する絞りを配置したことを特徴とする投影光学系。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
