特許
J-GLOBAL ID：200903019990818159

ラミネート装置

発明者：
隣 良郎

隣 良郎 について


出願人/特許権者：
株式会社エヌ・ピー・シー

株式会社エヌ・ピー・シー について


代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223313
公開番号（公開出願番号）：特開2008-047766
出願日： 2006年08月18日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：
【課題】製造する被ラミネート体の形状及び大きさに関わらず、被ラミネート体を常に均一に加熱することができ、多種多様の被ラミネート体を適切に製造可能なラミネート装置を提供する。【解決手段】被ラミネート体を加熱及び挟圧するラミネート装置のヒータ盤35の内部に複数のヒータ41(41A、41B)を設けると共に、前記ヒータ盤35の上面を分割した複数の加熱領域の一部又は全部に温度センサ42を夫々設け、制御装置43が前記温度センサ42の測定結果に基づいて、前記複数のヒータ41を個別に制御するように構成する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
被ラミネート体を加熱及び挟圧するラミネート装置であって、 複数のヒータを内部に備えたヒータ盤と、 前記ヒータ盤の上面を分割した複数の加熱領域の一部又は全部に夫々配置された温度センサと、 前記温度センサの測定結果に基づいて、前記複数のヒータを個別に制御する制御装置と、を有することを特徴とする、ラミネート装置。
IPC (2件)：
H01L 31/042 ,  B29C 65/24
FI (2件)：
H01L31/04 R ,  B29C65/24
Fターム (10件)：
4F211AP05 ,  4F211AR06 ,  4F211TA13 ,  4F211TC01 ,  4F211TJ22 ,  4F211TQ09 ,  4F211TQ13 ,  5F051BA14 ,  5F051EA03 ,  5F051JA05
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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