特許
J-GLOBAL ID:200903099024911081

加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-251377
公開番号(公開出願番号):特開2000-081918
出願日: 1998年09月04日
公開日(公表日): 2000年03月21日
要約:
【要約】【課題】 コントローラの数を少なくし、平板の温度を均一にすることができる加熱装置を提供する。【解決手段】 平板1の平面中央にはメインヒーター2と、平板1の中央部の温度を測るメインセンサ4が設置されている。平板1の平面外縁部には側部ヒーター3と、平板1の側面近傍の温度を測る側部センサ10が設置されている。メインセンサ4にはセンサ4から温度信号5を得る制御手段6が接続されている。制御手段6には制御手段6からの制御信号7に従いヒーター2に物理量9を出力するヒーター出力手段8が接続されている。側部センサ10にはセンサ10からの温度信号11と制御手段からの信号16を基に算出された側面放熱量を平板に付加させる放熱量付加手段12が接続されている。放熱量付加手段12には放熱量付加手段12からの熱量信号13に従いヒーター10に物理量15を出力するヒーター出力手段14が接続されている。
請求項(抜粋):
平板を加熱するための加熱装置であって、前記平板の側面近傍もしくは外周部を加熱する側部ヒーターと、前記平板の中央部に位置するメインヒーターと、前記メインヒーターの出力を制御する制御手段と、前記側部ヒーターの出力を平板側面からの放熱量と等しくする放熱量付加手段とを有することを特徴とする加熱装置。
IPC (2件):
G05D 23/32 ,  G05D 23/19
FI (2件):
G05D 23/32 ,  G05D 23/19 G
Fターム (10件):
5H323BB01 ,  5H323BB20 ,  5H323CA06 ,  5H323CB03 ,  5H323CB04 ,  5H323CB42 ,  5H323DA03 ,  5H323KK01 ,  5H323KK05 ,  5H323LL12
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 定着装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-292420   出願人:株式会社リコー
  • 加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-114205   出願人:株式会社ノリタケカンパニーリミテド

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