特許
J-GLOBAL ID：200903020035171742

永久パターン形成方法及びプリント基板

発明者：
樋口 令史

樋口 令史 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 廣田 浩一 ,  流 良広 ,  松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-092597
公開番号（公開出願番号）：特開2008-251918
出願日： 2007年03月30日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：
【課題】気泡が発生しにくく、感光層表面の平坦性が良好で、高精細なパターンを、短時間で形成可能であり、ランニングコストの低減を図ることができる永久パターン形成方法及び前記永久パターン形成方法により永久パターンが形成されるプリント基板の提供。【解決手段】支持体2上に感光層3を有してなる感光性フィルム1の感光層3を、表面に凸部10aを有してなる基体10上に積層する積層工程と、感光層3に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、前記積層工程が、ラミネータ5により、感光層3の底面を、凸部10aの高さに対して5〜90%の位置まで仮積層する仮積層工程と、平坦プレス機20により、感光層3の表面を平坦化すると共に、感光層3を基体10に圧着する平坦圧着工程とからなる永久パターン形成方法等である。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
支持体上に感光層を有してなる感光性フィルムの前記感光層を、表面に凸部を有してなる基体上に積層する積層工程と、前記感光層に対して露光を行なう露光工程とを少なくとも含み、 前記積層工程が、ラミネータにより、前記感光層の底面を、前記凸部の高さに対して15%〜85%の位置まで仮積層する仮積層工程と、 平坦プレス機により、前記感光層の表面を平坦化すると共に、前記感光層を前記基体に圧着する平坦圧着工程とからなることを特徴とする永久パターン形成方法。
IPC (5件)：
H05K 3/28 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/16 ,  G03F 7/20 ,  B29C 43/20
FI (6件)：
H05K3/28 F ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/16 ,  G03F7/20 501 ,  B29C43/20 ,  H05K3/28 D
Fターム (40件)：
2H025AA18 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC43 ,  2H025BC53 ,  2H025BC74 ,  2H025BC85 ,  2H025CA07 ,  2H025CA32 ,  2H025CB30 ,  2H025CC04 ,  2H025CC08 ,  2H025CC12 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025EA08 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H097CA06 ,  2H097CA12 ,  2H097CA17 ,  2H097FA10 ,  2H097LA09 ,  4F204AD08 ,  4F204AD20 ,  4F204AD24 ,  4F204AG03 ,  4F204AH36 ,  4F204FA01 ,  4F204FB01 ,  4F204FB22 ,  4F204FF05 ,  4F204FQ40 ,  5E314AA27 ,  5E314DD07 ,  5E314GG15 ,  5E314GG24
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 積層方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-332043   出願人：ニチゴー・モートン株式会社
  • 積層成形装置および積層成形方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-182282   出願人：株式会社名機製作所

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