特許
J-GLOBAL ID：200903020137764519

質量分析用基板並びに分析方法および装置

発明者：
納谷 昌之

納谷 昌之 について

, 
大塚 尚

大塚 尚 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-369441
公開番号（公開出願番号）：特開2007-171003
出願日： 2005年12月22日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、その物質を捕捉して質量分析する方法において、より低パワーのレーザ光を使用可能とする。【解決手段】基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、そのイオンを捕捉して質量分析する方法に用いられる質量分析用基板として、その表面の少なくとも一部が、レーザ光照射を受けて局在プラズモンを励起し得る金属粗面(例えばアルミナ層5の表面に形成された多数の微細孔6内に、該微細孔6の径よりも大きな頭部がアルミナ層5表面よりも上に突出した状態で金微粒子8が充填されてなる)とされている基板3を用いる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板の表面に固定した物質をレーザ光照射により該表面から脱離させ、その物質を捕捉して質量分析する方法に用いられる前記基板であって、その表面の少なくとも一部が、レーザ光照射を受けて局在プラズモンを励起し得る金属粗面とされていることを特徴とする質量分析用基板。
IPC (3件)：
G01N 27/62 ,  G01N 27/64 ,  H01J 49/04
FI (5件)：
G01N27/62 V ,  G01N27/62 F ,  G01N27/64 B ,  G01N27/62 K ,  H01J49/04
Fターム (10件)：
2G041CA01 ,  2G041DA03 ,  2G041DA04 ,  2G041EA01 ,  2G041GA06 ,  2G041JA08 ,  2G041JA16 ,  5C038EE03 ,  5C038EF17 ,  5C038EF21
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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