特許
J-GLOBAL ID:200903020244245044

光磁気記録媒体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-273300
公開番号(公開出願番号):特開2000-100006
出願日: 1998年09月28日
公開日(公表日): 2000年04月07日
要約:
【要約】【課題】 再生時に磁壁の移動を利用し、メモリ層の磁区保存安定性が向上した磁壁移動型の超高密度な優れた光磁気記録媒体とその製造方法の提供。【解決手段】 少なくとも第1、第2および第3の磁性層が順次積層形成されてなる光磁気記録媒体であって、前記第1の磁性層は、周囲温度近傍の温度において第3の磁性層に比べて相対的に磁壁抗磁力が小さく磁壁移動度の大きな磁性層からなり、第2の磁性層は、第1の磁性層および第3の磁性層よりキュリー温度の低い磁性層からなる光磁気記録媒体において、前記第1の磁性層の表面粗さRa(d)が第3の磁性層の表面粗さRa(m)より小さく(Ra(d)<Ra(m))されてなることを特徴とする光磁気記録媒体。
請求項(抜粋):
少なくとも第1、第2および第3の磁性層が順次積層形成されてなる光磁気記録媒体であって、前記第1の磁性層は、周囲温度近傍の温度において第3の磁性層に比べて相対的に磁壁抗磁力が小さく磁壁移動度の大きな磁性層からなり、第2の磁性層は、第1の磁性層および第3の磁性層よりキュリー温度の低い磁性層からなる光磁気記録媒体において、前記第1の磁性層の表面粗さRa(d)が第3の磁性層の表面粗さRa(m)より小さく(Ra(d)<Ra(m))されてなることを特徴とする光磁気記録媒体。
IPC (3件):
G11B 11/10 506 ,  G11B 11/10 541 ,  G11B 11/10
FI (3件):
G11B 11/10 506 A ,  G11B 11/10 541 C ,  G11B 11/10 541 E
Fターム (5件):
5D075EE03 ,  5D075FF12 ,  5D075FF20 ,  5D075GG06 ,  5D075GG16
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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