特許
J-GLOBAL ID：200903036901289921
光磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
河野 登夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-217638
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064131
出願日： 1996年08月19日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 MSR再生のビーム光の再生パワーマージンを低パワー側に広げる。【解決手段】 基板1をチャンバ内に搬入し、チャンバ内を5×10-5Pa以下に調整し、高周波スパッタエッチングにより基板1の表面にエッチングを施す。基板1の表面粗さは、0.1 nm〜2.5nm とする。基板1のエッチング処理の終了後、チャンバ内圧力を再度5×10-5Pa以下に調整し、スパッタリングにより、基板1の表面に下地誘電体層2を成膜する。続いて、再生層3、中間層4、記録層5及び上地誘電体層6を成膜する。このように形成された光磁気ディスクをチャンバから取り出す。
請求項（抜粋）：
基板の表面に複数の磁性層が積層され、前記磁性層が相互に交換結合力を有する光磁気記録媒体において、前記基板の表面は、0.1nm乃至2.5nmの表面粗さRaを有することを特徴とする光磁気記録媒体。
IPC (4件)：
G11B 11/10 506
, G11B 11/10 511
, G11B 11/10 521
, G11B 11/10 541
G11B 11/10 506 A
, G11B 11/10 511 A
, G11B 11/10 521 F
, G11B 11/10 541 E
