特許
J-GLOBAL ID:200903020321293081
酸化チタン膜の製造方法及び酸化チタン分散液組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
梅田 勝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-012095
公開番号(公開出願番号):特開平10-212120
出願日: 1997年01月27日
公開日(公表日): 1998年08月11日
要約:
【要約】【課題】 大きな比表面積を有し、クラックの発生が少なく、支持体との接着性が良好な酸化チタン膜を得ることができず、特に、光学材料、光電変換材料、太陽電池、電子材料、触媒、光触媒、触媒担体、吸着剤、紫外線吸収剤などに適した比表面の大きい多孔質の酸化チタン膜を得ることが難しかった。【解決手段】 一般式HO-(-CH2CH2O-)n-Rで示されるグライム系溶剤を含有する分散溶剤を用いた酸化チタン分散液を支持体上に塗布、焼成することにより、酸化チタン粒子を支持体上に固着させて、可視光領域において透明である多孔質の酸化チタン膜を製造する。
請求項(抜粋):
以下の一般式(I)で示されるグライム系溶剤に酸化チタン粒子を分散させることにより酸化チタン分散液を作製し、前記酸化チタン分散液を支持体に塗布し、次いで、焼成することを特徴とする酸化チタン膜の製造方法。HO-(-CH2CH2O-)n-R (I)(ここで、Rは置換基を有しても良いアルキル基あるいはアリール基のいずれかを表し、nは1〜10である。)
IPC (3件):
C01G 23/04
, B01J 19/00
, C03C 17/25
FI (3件):
C01G 23/04 Z
, B01J 19/00 K
, C03C 17/25 A
引用特許:
審査官引用 (7件)
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酸化チタン膜の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-344391
出願人:石原産業株式会社
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特開平4-220468
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スピンコーティング用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-162248
出願人:三菱化学株式会社
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セラミツク基板の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-315965
出願人:株式会社富士通ゼネラル
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特開平2-141419
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スタンプ用顔料インキ組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-291011
出願人:三菱鉛筆株式会社
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特開平4-202273
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