特許

J-GLOBAL ID：200903020365655606

ガス溶解水供給装置

発明者： 井田 純一 ,  森田 博志
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-082521
公開番号（公開出願番号）：特開2000-271549
出願日： 1999年03月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：

【要約】【課題】電子材料などのウェット洗浄に用いられるガス溶解水をユースポイントに供給し、ユースポイントで使用されなかった余剰のガス溶解水を貯留タンクに返送し、ガス溶解水のガス濃度に変動を生ずることなく、ガス溶解水を循環使用することができるガス溶解水供給装置を提供する。【解決手段】(A)ガス溶解水製造装置、(B)ガス溶解水製造装置で製造されたガス溶解水を貯留する貯留タンク、(C)貯留タンク内のガス溶解水の液面に接して上下動し、ガス溶解水と気相とを遮断する遮蔽材、(D)貯留タンクに一端が連結し、ユースポイントを経て、他端が貯留タンクに連結して、ガス溶解水の循環経路を形成する循環配管、(E)循環配管に設けられ、ガス溶解水を送給するポンプ及び(F)循環配管に設けられた温度調整装置とを有することを特徴とするガス溶解水供給装置。

請求項（抜粋）：

(A)ガス溶解水製造装置、(B)ガス溶解水製造装置で製造されたガス溶解水を貯留する貯留タンク、(C)貯留タンク内のガス溶解水の液面に接して上下動し、ガス溶解水と気相とを遮断する遮蔽材、(D)貯留タンクに一端が連結し、ユースポイントを経て、他端が貯留タンクに連結して、ガス溶解水の循環経路を形成する循環配管、(E)循環配管に設けられ、ガス溶解水を送給するポンプ及び(F)循環配管に設けられた温度調整装置とを有することを特徴とするガス溶解水供給装置。

IPC (3件)：

B08B 3/08 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/304 648

FI (3件)：

B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/304 648 K

Fターム (2件)：

3B201AA01 ,  3B201BA36

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 洗浄液の製造方法およびそのための装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-166695   出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘, オルガノ株式会社
• 流体用タンク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-285941   出願人：株式会社石間流体研究所