特許
J-GLOBAL ID：200903090087278284
洗浄液の製造方法およびそのための装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-166695
公開番号（公開出願番号）：特開平11-071600
出願日： 1998年06月15日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 高濃度のガス溶解洗浄液を短時間で製造する。【解決手段】 電気分解用純水源21からの純水を加圧ポンプ20で、電気分解装置2に供給しここで電気分解し、オゾンガスと水素ガスを得る。加圧ポンプ20を用いているため、これらのガスの圧力は大気圧以上である。大気圧以上の圧力のオゾンガス及び水素ガスは、それぞれ溶解装置6、7に供給され、ここで超純水供給装置4から供給される超純水に溶解され、オゾン水及び水素水が得られる。これらオゾン水及び水素水はそれぞれ混合装置8、9に供給され、ここでpHが調整される。
請求項（抜粋）：
電子部品等の被洗浄物の洗浄液の製造方法において、酸化性ガス、還元性ガス、不活性ガス、酸化性ガスと不活性ガスとの混合ガスまたは還元性ガスと不活性ガスとの混合ガスのいずれかのガスを、純水に前記ガスの供給圧力を大気圧を超えて制御しながら溶解させることを特徴とする洗浄液の製造方法。
IPC (5件)：
C11D 11/00
, B01F 1/00
, B08B 3/08
, C11D 7/04
, C11D 17/08
C11D 11/00
, B01F 1/00 A
, B08B 3/08 A
, C11D 7/04
, C11D 17/08
