特許
J-GLOBAL ID：200903020459013896
真空チャックの吸着プレート
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295293
公開番号（公開出願番号）：特開平8-153992
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月11日
要約：
【要約】【目的】 加工時に発生する粉塵による多孔質体の目詰まりを防止することができる真空チャックの吸着プレートを提供すること。【構成】 真空チャック2の吸着プレート3は、板状被加工物であるウェハWを真空吸着するための吸着面Sを有する。吸着面Sの中央部には、第1の吸引凹部としての嵌着穴7が設けられている。嵌着穴7の開口部7aには、板状の多孔質体9が嵌合されている。多孔質体9の周囲には、それを包囲するように第2の吸引凹部としての吸引溝10が設けられている。多孔質体9及び吸引溝10は、ともに真空引き手段としての真空ポンプに連通されている。
請求項（抜粋）：
真空引き手段による真空引きによって、吸着面(S)上に板状被加工物(W)を固定させる真空チャック(2)の吸着プレート(3,30,35)であって、前記吸着面(S)上の所定領域に前記真空引き手段に連通する第1の吸引凹部(7)を設け、かつ前記第1の吸引凹部(7)の周囲に前記真空引き手段に連通する第2の吸引凹部(10,36)を設けるとともに、前記第1の吸引凹部(7)の開口部(7a)に多孔質体(9)を嵌合させた真空チャックの吸着プレート。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (2件)
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ウエハチャック
公報種別：公開公報
出願番号：特願平4-347940
出願人：株式会社日立製作所
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真空吸着装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-315078
出願人：京セラ株式会社, 株式会社ディスコ
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