オゾン水生成方法及びオゾン水製造装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鶴若俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-348307
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145181
出願日： 2001年11月14日
公開日（公表日）： 2003年05月20日
要約：

【要約】【課題】長期間にわたり連続的で、又常に安定な高濃度のオゾン水を得る。【解決手段】純水にオゾンガスを添加し、オゾン水を生成する方法及び装置において、純水中に存在する珪素、及び/又は珪素化合物を除去した上で、純水にオゾンガスを添加する。また、純水中に存在する珪素、及び/又は珪素化合物を連続的に、及び/又は間欠的に測定し、珪素、及び/又は珪素化合物の量に従ってオゾンガス量、及び/又はオゾンガス濃度を変化させる。

請求項（抜粋）：

純水にオゾンガスを添加し、オゾン水を生成する方法において、前記純水中に存在する珪素、及び/又は珪素化合物を除去した上で、前記純水に前記オゾンガスを添加することを特徴とするオゾン水生成方法。

IPC (8件)：

C02F 1/78 , B01D 19/00 , B01F 1/00 , C01B 13/10 , C02F 1/20 , C02F 1/46 , C02F 1/72 , H01L 21/304 648

FI (8件)：

C02F 1/78 , B01D 19/00 Z , B01F 1/00 A , C01B 13/10 D , C02F 1/20 A , C02F 1/46 Z , C02F 1/72 Z , H01L 21/304 648 G

Fターム (26件)：

4D011AA20 , 4D011AD03 , 4D037AA03 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037CA04 , 4D037CA11 , 4D037CA15 , 4D050AA05 , 4D050AB31 , 4D050BB09 , 4D050CA03 , 4D050CA08 , 4D050CA10 , 4D061DA02 , 4D061DB09 , 4D061DB13 , 4D061DC18 , 4D061EA02 , 4D061EB01 , 4D061EB04 , 4D061EB13 , 4D061EB19 , 4G035AA01 , 4G042CA04 , 4G042CE01

引用特許：

出願人引用 (3件)

高純度オゾン水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-336128 出願人：株式会社石森製作所
特開平3-020488
特開平4-090885

審査官引用 (6件)

高純度オゾン水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-336128 出願人：株式会社石森製作所
特開平3-020488
特開平4-090885

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