特許
J-GLOBAL ID：200903020491710671

ガントリー型XYステージ

発明者：
岩永 康志

岩永 康志 について

, 
水戸部 和彦

水戸部 和彦 について


出願人/特許権者：
レーザーフロントテクノロジーズ株式会社

レーザーフロントテクノロジーズ株式会社 について


代理人 (1件)： 藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-224773
公開番号（公開出願番号）：特開2006-049384
出願日： 2004年07月30日
公開日（公表日）： 2006年02月16日
要約：
【課題】 ガントリー部の移動に伴う揺れが少ないガントリー型XYステージを提供する。 【解決手段】 架台4上に9個の除振マウント5を設け、その上に石定盤6を設ける。そして、石定盤6上に1対のガイドベース7を設け、その上に、石定盤6に対してY方向に移動可能にCFRPからなる1対の支柱12を設ける。また、1対の支柱12間には、CFRPからなるビーム14を張架する。更に、ビーム14に対してX方向に移動可能に移動ベース18を設け、移動ベース18にレーザ光学ユニット20を搭載する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
定盤と、ヤング率が200GPa以上である第1の複合材料からなり前記定盤上に前記定盤の上面に平行な第1の方向に相互に離隔して前記第1の方向に交差する第2の方向に移動可能に設けられた1対の支柱と、ヤング率が200GPa以上である第2の複合材料からなり前記1対の支柱間に張架されたビームと、このビームに対して前記第1の方向に移動可能に設けられた移動ベースと、を有することを特徴とするガントリー型XYステージ。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  G01N 21/84
FI (2件)：
H01L21/68 K ,  G01N21/84 B
Fターム (11件)：
2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051BA10 ,  2G051DA07 ,  5F031CA05 ,  5F031HA55 ,  5F031HA57 ,  5F031LA01 ,  5F031LA08 ,  5F031MA33
引用特許：
審査官引用 (5件)
  • 工作機械
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-068264   出願人：三菱電機株式会社
  • 基板検査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-172613   出願人：シグマテクノス株式会社
  • 精密機器用部材
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-287374   出願人：新日本製鐵株式会社
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