特許
J-GLOBAL ID:200903099549155121

基板検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-172613
公開番号(公開出願番号):特開2002-365026
出願日: 2001年06月07日
公開日(公表日): 2002年12月18日
要約:
【要約】【課題】 サブミクロンの分解能と高速での検査が可能な基板検査装置を提供する。【解決手段】 基板Wの画像を取得するラインセンサカメラ6と、ラインセンサカメラ6に直交する方向に基板Wを走査するX軸ステージ2と、ラインセンサカメラ6と平行な方向に基板Wを移動させるY軸ステージ3と、ラインセンサカメラ6を保持するZ軸ステージ4を備える。各軸ステージ20は、グラナイト製のガイドレール21及びスライダ22と静圧ガス軸受27とからなる静圧ガス軸受式のリニアガイド機構を備えると共に、非接触式の駆動機構及び位置検出機構として、リニアモータ24及びリニアスケールエンコーダ25を備える。
請求項(抜粋):
検査対象基板の画像を取得するラインセンサカメラと、該ラインセンサカメラに直交する方向に基板及びラインセンサカメラを相対走査する1軸ステージとを有し、該1軸ステージによる走査に伴うラインセンサカメラの取得画像に基づいて基板を検査する基板検査装置において、前記1軸ステージが、ガイドレールと、該ガイドレールに沿った方向のみにスライドするスライダと、前記ガイドレールとスライダの案内面間にガスを供給しガス圧によってスライダを支持する静圧ガス軸受とからなる静圧ガス軸受式のリニアガイド機構を備えると共に、前記ガイドレールに対してスライダを非接触で駆動するリニアモータ式のステージ駆動機構を備えていることを特徴とする基板検査装置。
IPC (3件):
G01B 11/30 ,  G12B 5/00 ,  H01L 21/66
FI (3件):
G01B 11/30 A ,  G12B 5/00 T ,  H01L 21/66 J
Fターム (21件):
2F065AA49 ,  2F065BB03 ,  2F065BB15 ,  2F065CC19 ,  2F065DD03 ,  2F065DD06 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ25 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F078CA08 ,  2F078CB05 ,  2F078CB09 ,  2F078CB10 ,  2F078CB12 ,  2F078CB16 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA38 ,  4M106DB02 ,  4M106DB07
引用特許:
審査官引用 (17件)
  • マスク検査装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-168831   出願人:株式会社東芝
  • 特開昭61-209838
  • 特開平3-059446
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