特許
J-GLOBAL ID：200903020557698970
無電解ニッケルめっき浴
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小野 信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-062727
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256866
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 銅上へ直接ニッケルを析出させることが可能で、しかも、平滑性、選択析出性等も優れた実用性の高い無電解ニッケルめっき浴を提供すること。【解決手段】 ニッケルイオン、次亜リン酸またはその塩、ジメチルアミンボランおよびグルコン酸またはその塩を含有する無電解ニッケルめっき浴並びに当該無電解ニッケルめっき浴に更にニッケルめっきインヒビターを含有せしめた無電解ニッケルめっき浴。
請求項（抜粋）：
ニッケルイオン、次亜リン酸またはその塩、ジメチルアミンボランおよびグルコン酸またはその塩を含有する無電解ニッケルめっき浴。
Fターム (9件)：
4K022AA02
, 4K022AA42
, 4K022BA14
, 4K022DA01
, 4K022DB02
, 4K022DB03
, 4K022DB04
, 4K022DB07
, 4K022DB08
