特許
J-GLOBAL ID:200903020581946666

微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 三輪 鐵雄 ,  三輪 英樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-264259
公開番号(公開出願番号):特開2009-091205
出願日: 2007年10月10日
公開日(公表日): 2009年04月30日
要約:
【課題】黒色系で電気伝導度の低い微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を工業的規模で提供する。【解決手段】二酸化ジルコニウムまたは水酸化ジルコニウムと、酸化マグネシウムと、金属マグネシウムとの混合物を、窒素ガスまたは窒素ガスを含む不活性ガス気流中650〜800°Cで焼成する工程を経て、X線回折プロファイルにおいて、低次酸化ジルコニウムのピークと窒化ジルコニウムのピークを有し、比表面積が10〜60m2/gである微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体を製造する。金属マグネシウムとしては、粒径100〜500μmの粒状であり、また、二酸化ジルコニウムまたは水酸化ジルコニウムと、金属マグネシウムとの比率としては、ジルコニウム(Zr)とマグネシウム(Mg)とのモル比でMg/Zr=1.2〜1.6である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
X線回折プロファイルにおいて、低次酸化ジルコニウムのピークと窒化ジルコニウムのピークを有し、比表面積が10〜60m2/gであることを特徴とする微粒子低次酸化ジルコニウム・窒化ジルコニウム複合体。
IPC (2件):
C01G 25/00 ,  C01G 25/02
FI (2件):
C01G25/00 ,  C01G25/02
Fターム (9件):
4G048AA01 ,  4G048AA03 ,  4G048AA10 ,  4G048AB01 ,  4G048AB06 ,  4G048AC05 ,  4G048AD04 ,  4G048AD06 ,  4G048AE05
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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