基板保持装置および露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-035593
公開番号（公開出願番号）：特開平10-223520
出願日： 1997年02月04日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：

【要約】【課題】ウエハの温度制御の応答性を改善する。【解決手段】 X線L1 によって露光されるウエハW1 は、密封された露光室3内のウエハステージ4に保持される。ウエハW1 は、ウエハチャック10に吸着され、その内部配管を流動する温調流体によって温度制御される。温調流体は、露光室3の外に配設された第1の温調ユニット14によって恒温水となり、恒温水の温度は、ウエハチャック10と一体である第2の温調ユニット15によって微調節される。

請求項（抜粋）：

基板保持面と温調流体流動路を有する基板保持盤と、これを移動させる移動ステージと、前記基板保持盤の前記温調流体流動路に供給される温調流体を所定の温度に制御する第1の温度制御手段と、前記温調流体の温度を前記所定の温度から所定量だけ変化させる第2の温度制御手段を有する基板保持装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02 , H01L 21/68

FI (6件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G03F 7/20 521 , G21K 5/02 X , H01L 21/68 N , H01L 21/30 502 H

引用特許：

審査官引用 (8件)

特開平1-117323
特開平3-062920
基板支持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-165334 出願人：キヤノン株式会社

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