RI化合物合成装置及びRI化合物合成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 寺崎史朗 , 黒木義樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-131705
公開番号（公開出願番号）：特開2007-302592
出願日： 2006年05月10日
公開日（公表日）： 2007年11月22日
要約：

【課題】反応物質の量を減らすために微量の反応物質を取り扱うことができ、かつ流路壁面に吸着される生成物を減らすことで放射性同位元素標識化合物の収率を向上することができるRI化合物合成装置及びRI化合物合成方法を提供する。【解決手段】合成装置1は、第1反応液が通過する流路L1と、第2反応液が通過する流路L2と、流路L1及び流路L2に連結され、第1及び第2反応液を通過させる流路L3と、流路L3を通過した第1及び第2反応液を導入し反応させる反応室A1と、第1及び第2反応液を反応室A1に導入した後、再び流路L3を通じて反応室A1から排出するように、ピストン10bを制御する制御装置17を備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

放射性同位元素を反応させて、放射性同位元素標識化合物を得るRI化合物合成装置において、前記放射性同位元素標識化合物の原料である第1の流体が通過する第1の流路と、前記放射性同位元素標識化合物の原料である第2の流体が通過する第2の流路と、前記第1の流路及び前記第2の流路に連結され、前記第1の流体及び前記第2の流体を通過させる第3の流路と、前記第3の流路を通過した前記第1及び第2の流体を導入し反応させる第1の反応部と、前記第1及び第2の流体を流動させ前記第1の反応部に出入りさせる第1の吸引吐出手段と、前記第1の流体及び前記第2の流体を前記第1の反応部に導入した後、再び前記第3の流路を通じて前記第1の反応部から排出するように、前記第1の吸引吐出手段を制御する制御手段を備えることを特徴とするRI化合物合成装置。

IPC (2件)：

C07B 59/00 , C07D 471/10

FI (2件)：

C07B59/00 , C07D471/10 102

Fターム (12件)：

4C065AA16 , 4C065BB05 , 4C065CC01 , 4C065DD03 , 4C065EE02 , 4C065HH04 , 4C065JJ01 , 4C065KK09 , 4C065LL04 , 4H006AA02 , 4H006AA04 , 4H006AC84

引用特許：

出願人引用 (1件)

微細加工デバイスの使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-576367 出願人：ハマースミス・イメイネット・リミテッド

審査官引用 (4件)

微細加工デバイスの使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2003-576367 出願人：ハマースミス・イメイネット・リミテッド
特開昭61-245837
RI化合物合成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-171471 出願人：住友重機械工業株式会社, 日本メジフィジックス株式会社

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