洗浄方法及び洗浄装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡邉勇 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-121919
公開番号（公開出願番号）：特開平7-299349
出願日： 1994年05月11日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】半導体ウエハ等に付着した有機物をより速い速度で洗浄することの出来る紫外線/オゾン洗浄方法および洗浄装置を提供する。【構成】被洗浄物3を真空空間1中に配置して、被洗浄物3に紫外線を照射すると共に酸素又はオゾンを含む洗浄用ガスを流し、被洗浄物表面に付着した付着物を取り除く。

請求項（抜粋）：

被洗浄物を真空空間中に配置して、該被洗浄物に紫外線を照射すると共に酸素又はオゾンを含む洗浄用ガスを流し、前記被洗浄物表面に付着した付着物を取り除くことを特徴とする洗浄方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

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