特許
J-GLOBAL ID:200903020743599582

液晶表示装置の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 原 謙三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-174126
公開番号(公開出願番号):特開2001-356335
出願日: 2000年06月09日
公開日(公表日): 2001年12月26日
要約:
【要約】【課題】 繰り返し露光における境界部分を目立たなくさせ、面内均一の凹凸形状を形成して良好な反射特性を実現できる、画素電極の少なくとも一部に反射機能を備えた液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 第1フォトマスク103(1回目の露光領域)の右端部領域103bと、第2フォトマスク104(2回目の露光領域)の左端部領域104aとの設置領域は互いに重なり合う。この重ね合わせ領域102において、1回目と2回目との両方の露光時に露光される領域が存在しないように、すなわち、重ね合わせ領域102において、円形パターン(透光部103f,104f)が重なる領域が存在しないように、透光部103f、104fが配置されている。
請求項(抜粋):
液晶層を挟持する一対の基板のうち少なくとも一方が透光性を有する透光性基板であり、他方の基板に設けられた下層電極上に、表面に凹凸形状を有する層間絶縁膜を介して反射電極が設けられている液晶表示装置の製造方法において、感光性を有するマスタ形成用絶縁膜を、複数に分割した分割領域毎に凹凸形成用遮光手段を用いて露光することにより、凹凸形成用マスタを作製する第1の工程と、上記凹凸形成用マスタを用いて、表面に凹凸形状を有するドライフィルムレジストを作製する第2の工程と、上記ドライフィルムレジストを用いて、上記他方の基板上に上記層間絶縁膜を形成する第3の工程と、上記層間絶縁膜を所定の形状にパターニングし、上記下層電極の位置に合わせてコンタクトホールを形成する第4の工程と、上記層間絶縁膜上に、上記コンタクトホールを介して上記下層電極と接続される上記反射電極を形成する第5の工程とを含み、さらに、上記第1の工程で行われる露光では、互いに隣接する分割領域の境界部に重ね合わせ領域が設けられており、上記凹凸形成用遮光手段には、異なる露光時に上記重ね合わせ領域の同位置を露光しないように透光部が配置されていることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
IPC (3件):
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 ,  G02F 1/13 101
FI (3件):
G02F 1/1335 520 ,  G02B 5/02 C ,  G02F 1/13 101
Fターム (29件):
2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H088EA03 ,  2H088FA10 ,  2H088FA17 ,  2H088FA25 ,  2H088FA27 ,  2H088FA30 ,  2H088HA08 ,  2H088MA02 ,  2H091FA16Y ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC19 ,  2H091FC22 ,  2H091FC26 ,  2H091FC29 ,  2H091FC30 ,  2H091FD04 ,  2H091FD13 ,  2H091FD23 ,  2H091GA13 ,  2H091LA03 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12 ,  2H091LA16
引用特許:
審査官引用 (7件)
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