特許
J-GLOBAL ID：200903020789377533
マスクブランクス用ガラス基板の再生方法、マスクブランクスの製造方法及び転写用マスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
阿仁屋 節雄
, 油井 透
, 清野 仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-418335
公開番号（公開出願番号）：特開2005-181423
出願日： 2003年12月16日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：
【課題】金属とシリコンと窒素とを含む薄膜を剥離液で剥離する場合において、ガラス基板の荒れを抑制しながら確実に薄膜を剥離し、良好にマスクブランクス用ガラス基板を再生する。【解決手段】ガラス基板上に主として金属とシリコンと窒素とを含む薄膜が形成されたマスクブランクス用ガラス基板の上記薄膜の剥離を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を0.1〜0.8wt%含む水溶液に接触させて行って再生する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
マスクスブランクス用ガラス基板上に形成された薄膜を剥離してマスクブランクス用ガラス基板を再生するマスクブランクス用ガラス基板の再生方法において、
前記薄膜は主として金属とシリコンと窒素とを含むものであり、
前記薄膜の剥離は、前記薄膜が形成されたガラス基板を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を0.1〜0.8wt%含む水溶液に接触させて行うものであることを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板の再生方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 Z
, H01L21/30 502P
出願人引用 (2件)
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特許第2966369号公報
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特開昭62-218585号公報
審査官引用 (5件)
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