特許

J-GLOBAL ID：200903020801612225

枚葉式の熱処理装置

発明者： 青木 一二 ,  大加瀬 亘 ,  長谷井 雅昭
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-267774
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092753
出願日： 1996年09月18日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 被処理体の面内温度の均一性を向上させることができる枚葉式の熱処理装置を提供する。【解決手段】 処理容器4内の被処理体ホルダ14に保持させた被処理体Wに対して所定の熱処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記被処理体ホルダの下方と上方に前記被処理体を加熱するための加熱手段16,26を配置するように構成する。これにより、被処理体を両面から加熱してこの面内温度の均一性を向上させる。

請求項（抜粋）：

処理容器内の被処理体ホルダに保持させた被処理体に対して所定の熱処理を施す枚葉式の熱処理装置において、前記被処理体ホルダの下方と上方に前記被処理体を加熱するための加熱手段を配置するように構成したことを特徴とする枚葉式の熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/31

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  H01L 21/22 501 S ,  H01L 21/31 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267044   出願人：川崎製鉄株式会社
• 特開平1-123413
  
• 気相成長方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-218303   出願人：東横化学株式会社

審査官引用 (4件)

• 薄膜形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-267044   出願人：川崎製鉄株式会社
• 特開平1-123413
  
• 気相成長方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-218303   出願人：東横化学株式会社
• 特開平1-123413