エッチング方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-290392
公開番号（公開出願番号）：特開平8-130211
出願日： 1994年10月31日
公開日（公表日）： 1996年05月21日
要約：

【要約】【目的】エッチングする際、下地に対する選択比を高くとりつつ、しかもテーパエッチング、並びにその際のテーパ角度の制御を可能にする。【構成】減圧自在な処理室2内のサセプタ5にウエハWを載置させ、この処理室2内にC4F8ガスを導入すると共に、処理室2内にプラズマを発生させてウエハWに対してエッチングするにあたり、C4F8ガスにO2ガスを添加したり、サセプタの温度を調節する。O2ガスの添加量の加減や、サセプタ5の温度によって、ウエハWに形成される穴、溝等の内側壁のテーパ角度を任意に調節することが可能である。

請求項（抜粋）：

減圧自在な処理室内に設けた載置台に被処理体を載置させ、この処理室内にフロロカーボン系ガスを導入すると共に、処理室内にプラズマを発生させ、前記プラズマ雰囲気の下で、前記被処理体に対してエッチングする方法において、前記フロロカーボン系ガスにO2ガスを添加し、エッチングによって形成される穴、溝等の内側壁のテーパ角度を、前記O2ガスの添加量に応じて制御することを特徴とする、エッチング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , C23F 4/00

FI (2件)：

H01L 21/302 M , H01L 21/302 F

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平2-280323
特開平2-023619
特開平4-258117

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