特許
J-GLOBAL ID：200903021055438326

真空処理装置

発明者：
東 野 秀 史

東 野 秀 史 について


出願人/特許権者：
株式会社芝浦製作所

株式会社芝浦製作所 について


代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-154862
公開番号（公開出願番号）：特開平9-008094
出願日： 1995年06月21日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【目的】 被処理物の処理効率(生産性)を大幅に向上させることができ、また、被処理物の処理工程の多様化に簡単かつ低コストで対応することのできる真空処理装置を提供する。【構成】 被処理物を真空下において処理する処理室と、この処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトランスファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設された真空排気可能な第1ロードロック室及び第2ロードロック室とを備えている。前記トランスファー室の内部に前記第1及び第2ロードロック室と前記処理室との間で前記被処理物を搬送する真空側ロボットを設ける。前記第1及び第2ロードロック室に前記被処理物をその内部に搬送するための閉鎖可能な各搬入口を設け、これらの搬入口の傍らに前記被処理物を前記各搬入口を介して前記第1及び第2ロードロック室の内部に搬送する大気側ロボットを設ける。
請求項（抜粋）：
被処理物を真空下において処理する処理室と、この処理室に隔離可能に連設された真空排気可能なトランスファー室と、このトランスファー室に隔離可能に連設された真空排気可能な第1ロードロック室及び第2ロードロック室とを備え、前記トランスファー室の内部に前記第1及び第2ロードロック室と前記処理室との間で前記被処理物を搬送する真空側ロボットを設け、前記第1及び第2ロードロック室に前記被処理物をその内部に搬送するための閉鎖可能な各搬入口を設け、これらの搬入口の傍らに前記被処理物を前記各搬入口を介して前記第1及び第2ロードロック室の内部に搬送する大気側ロボットを設けたことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/68 ,  H01L 21/02
FI (2件)：
H01L 21/68 A ,  H01L 21/02 Z
引用特許：
審査官引用 (4件)
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