半導体製造装置及びそれにおける表示方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：阪本清孝 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-016347
公開番号（公開出願番号）：特開平8-191040
出願日： 1995年01月09日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】ウエハの位置と、処理の進捗状況とを対応させて逐次表示し、装置が停止した場合にも、操作者にウエハの処理状況を正確に知らせて、良品を廃棄するのを防ぎ、歩留りを向上させることができる半導体製造装置及びそれにおける表示方法を提供する。【構成】装置内のウエハに固有のウエハNo. を付与し、各ウエハの位置を監視する位置情報監視手段21と、ウエハ毎のプロセス状況を監視するプロセス情報監視手段24と、ウエハ毎の位置とプロセス状況のデータを格納する状況テーブル25を設け、表示処理手段26が、状況テーブル25を参照して、ウエハが位置する検出ポイントに対応する表示エリア9に、当該ウエハのプロセス状況に対応する表示色を表示する半導体製造装置及びそれにおける表示方法としている。

請求項（抜粋）：

装置内で処理されるウエハの位置を監視する位置監視手段と、ウエハのプロセス状況を監視するプロセス監視手段と、前記位置監視手段で監視したウエハの位置情報と前記プロセス監視手段で監視したウエハのプロセス状況を対応づけて記憶する状況テーブルと、前記状況テーブルを参照して表示部におけるウエハの位置に対応する各ポイントにウエハのプロセス状況を表示させるデータを作成する表示処理手段を有する表示画面制御部を具備することを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/02 , H01L 21/205 , H01L 21/68

引用特許：

審査官引用 (4件)

半導体製造装置の停電処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-233696 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-170520
特開昭63-278319

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