特許
J-GLOBAL ID：200903021106539386

電子ビーム描画装置および描画方法

発明者：
太田 洋也

太田 洋也 について

, 
早田 康成

早田 康成 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (2件)： 小川 勝男 ,  田中 恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-115427
公開番号（公開出願番号）：特開2006-294962
出願日： 2005年04月13日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：
【課題】 偏向器に非点補正と焦点補正を重畳した場合に、焦点補正による像倍率変化や像回転が最小になり、かつ、偏向収差も最小にして高精度な描画を行うことが可能な電子ビーム描画装置を提供する。 【解決手段】 電子ビームの主偏向を行なう静電型の主偏向器214と、電子ビームの副偏向を行なう静電型の副偏向器216とを有し、かつ、副偏向器216の上流に、電子ビームの焦点補正を行なう焦点補正器218を設け、電子ビームの非点補正を、主偏向器214と副偏向器216とを用いて行ない、電子ビームの焦点補正を、主偏向器214と焦点補正器218とを用いて行なうよう構成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
電子源と、前記電子源から放出される電子ビームを、試料上に照射し走査することにより、前記試料上に所望のパターンを形成する電子光学系とを備えた電子ビーム描画装置において、前記電子光学系は、複数の静電型の非点補正器と、複数の静電型の焦点補正器とを具備することを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01J 37/147 ,  H01J 37/153 ,  H01J 37/21 ,  H01J 37/305
FI (6件)：
H01L21/30 541E ,  G03F7/20 504 ,  H01J37/147 C ,  H01J37/153 Z ,  H01J37/21 Z ,  H01J37/305 B
Fターム (13件)：
2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C033GG02 ,  5C033GG03 ,  5C033JJ01 ,  5C033JJ05 ,  5C033MM03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB08 ,  5F056CB16 ,  5F056CB32 ,  5F056CC02 ,  5F056FA07
引用特許：
出願人引用 (3件)

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