特許
J-GLOBAL ID：200903021149083220
ポストプラズマを用いる窒化方法および窒化装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
亀谷 美明
, 金本 哲男
, 萩原 康司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-177389
公開番号（公開出願番号）：特開2007-191784
出願日： 2006年06月27日
公開日（公表日）： 2007年08月02日
要約：
【課題】迅速な窒化工程を行い、窒化能を向上させる、ポストプラズマを用いる窒化方法および装置を提供する。【解決手段】窒化方法は、炉の内部に試片を装入して加熱し、試片の外部で発生したプラズマに気体を通過させて試片を窒化する方法であって、試片の外部に設置されたスクリーン網にプラズマを生成させた後、酸化及び還元性気体によって試片表面の残留ガス及び不純物を除去する表面活性化工程と、表面活性化工程を経た試片に、窒素と水素と窒化促進剤を混合した窒化剤を投入して窒化する窒化層形成工程と、炉の内部温度を降下させて、窒化層形成工程を経た試片を冷却する冷却工程とを含む。窒化装置は、炉の内部に試片を装入して加熱し、試片の外部で発生したプラズマに気体を通過させて試片を窒化する装置であって、試片の外部に、プラズマが生成されるスクリーン網が設置され、スクリーン網の外側には、複数のガスホールを持つガス管が設置される。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
炉の内部に試片を装入して加熱し、前記試片の外部で発生したプラズマに気体を通過させて前記試片を窒化する方法において、
前記試片の外部に設置されたスクリーン網にプラズマを生成させた後、酸化および還元性気体によって前記試片の表面の残留ガスおよび不純物を除去する表面活性化工程と;
前記表面活性化工程を経た前記試片に、窒素と水素と窒化促進剤とを混合してなる窒化剤を投入して、前記試片を窒化する窒化層形成工程と;
前記炉の内部温度を降下させて、前記窒化層形成工程を経た前記試片を冷却する冷却工程と;
を含むことを特徴とする、ポストプラズマを用いる窒化方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4K028BA02
, 4K028BA12
, 4K028BA21
, 4K028BA22
審査官引用 (8件)
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特開平2-238626
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特開昭61-270837
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特開昭60-211061
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