特許
J-GLOBAL ID：200903021220348582
パターン形成方法及び薄膜トランジスタアレイ基板並びに液晶表示素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
廣田 浩一
, 流 良広
, 松田 奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-168002
公開番号（公開出願番号）：特開2007-334156
出願日： 2006年06月16日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】大画面用の液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)の作製に好適なパターン形成方法及びTFTアレイ基板並びに液晶表示素子の提供。【解決手段】描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、描画画素の配列ピッチ、傾斜角度、描画ピッチ、及び位相差の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して露光を行う露光工程等を含むパターン形成方法である。【選択図】図10
請求項（抜粋）：
ポジ型感光性組成物を用いて基材の表面に、少なくとも、ポジ型感光層を形成するポジ型感光層形成工程と、
該ポジ型感光層に対し、
光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するn個(ただし、nは2以上の自然数)の2次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の傾斜角度をなすように配置された露光ヘッドを用い、該露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させ、
前記パターン情報に対応する描画パターンにおいて、前記描素部により形成された描画画素で再現されることにより生じるジャギーのジャギーピッチ及びジャギー振幅の少なくともいずれかが所定値以下となるよう、
(a)隣接する前記描素部により形成される前記描画画素の配列ピッチ、
(b)複数の前記描画画素からなる二次元状の描画画素群の前記走査方向に対する傾斜角度、
(c)前記走査方向に対する前記描画画素の描画ピッチ、及び
(d)前記走査方向と略直交する方向に隣接して形成される前記描画画素の前記走査方向に対する描画位置の位相差、
の少なくともいずれかを設定し、前記パターン情報に基づいて前記描素部を所定のタイミングで変調制御して露光を行う露光工程と、
該露光工程により露光されたポジ型感光層を現像する現像工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
IPC (3件)：
G03F 7/20
, G03F 7/023
, G02F 1/136
G03F7/20 501
, G03F7/023 511
, G02F1/1368
2H025AB17
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB29
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H092JA24
, 2H092MA15
, 2H092MA16
, 2H092MA35
, 2H092NA25
, 2H092PA01
, 2H097AA03
, 2H097AA11
, 2H097AB07
, 2H097CA17
, 2H097LA11
