特許
J-GLOBAL ID：200903021242494507
高純度易溶解性酸化銅の製造方法、高純度易溶解性酸化銅、銅メッキ材料及び銅メッキ方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-095539
公開番号（公開出願番号）：特開2004-299974
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：
【課題】塩化銅エッチング廃液を利用して銅メッキ材料である酸化銅粉を製造する方法では、塩化銅エッチング廃液中に多くの不純物金属が含まれていることから、この廃液を原料として生成された酸化銅粉には不純物金属が混入される。不純物の混入は電気メッキに悪影響を与える原因になっている。【解決手段】塩化銅エッチング廃液に塩化ナトリウムと金属銅材とを加えて、廃液中の塩化第二銅を塩化第一銅に変え、得られた塩化第一銅水溶液から不溶解残渣分を除去した後、母液に水を加えて塩化第一銅を析出させる。回収された塩化第一銅粉を水中に浸漬して塩素と反応させて塩化第二銅水溶液を得、この塩化第二銅水溶液を原料とすることで、生成後の酸化銅粉中の不純物を抑えることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
塩化銅エッチング廃液中の銅分を塩化第一銅として回収する工程と、この工程で回収された塩化第一銅を塩素と反応させて塩化第二銅水溶液を得る工程と、この工程で得られた塩化第二銅水溶液を原料として塩基性炭酸銅を生成する工程と、次いで、前記塩基性炭酸銅を熱分解して酸化銅を得る工程と、を含むことを特徴とする高純度易溶解性酸化銅の製造方法。
IPC (5件)：
C01G3/02
, C01G3/00
, C01G3/05
, C23F1/46
, C25D21/14
C01G3/02
, C01G3/00
, C01G3/05
, C23F1/46
, C25D21/14 E
4K057WE08
, 4K057WH01
, 4K057WH08
