特許
J-GLOBAL ID:200903021325624224
積層インダクタ及びその外部電極端子形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
吉田 研二
, 石田 純
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-218789
公開番号(公開出願番号):特開2004-063698
出願日: 2002年07月26日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】インダクタ部品の設計工数、製造コスト及び管理コストを削減する。【解決手段】下側帯状導体16とスルーホール18,20が形成された下側絶縁層14、スルーホール24,26が形成された絶縁層22及び上側帯状導体30とスルーホール32,34が形成された上側絶縁層28が積層されることで、積層方向と垂直な軸周りに螺旋形状に巻回されたコイル導体が形成される。最上絶縁層42上には、スルーホール32,34の各々と接続される電極パッド44が形成されており、入力端子及び出力端子に用いる2つの電極パッド44を選択することでインダクタンス値を可変にすることができる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
複数の絶縁層が積層された積層体に、積層方向と垂直な軸周りに螺旋形状に巻回されたコイル導体が形成され、
該コイル導体は、
上側絶縁層上に形成された上側帯状導体と、
上端が上側帯状導体の一端と接続され、下端が下側絶縁層に設けられた第1のスルーホール導体と、
下側絶縁層上に形成され、一端が第1のスルーホール導体の下端と接続された下側帯状導体と、
下端が下側帯状導体の他端と接続され、上端が別の上側帯状導体の他端と接続された第2のスルーホール導体と、
によって形成されるパターンが積層方向と垂直な軸方向に複数回繰り返されて形成された導体を含む積層インダクタであって、
上側絶縁層上または下側絶縁層上の導体部と接続された入力端子と、
上側絶縁層上または下側絶縁層上の導体部と接続された出力端子と、
を有し、
入力端子と出力端子の少なくとも一方における上側絶縁層上または下側絶縁層上の導体部との接続位置を変えることで、インダクタンス値が可変であることを特徴とする積層インダクタ。
IPC (4件):
H01F27/29
, H01F17/00
, H01F21/00
, H01F41/10
FI (4件):
H01F15/10 A
, H01F17/00 C
, H01F21/00
, H01F41/10 C
Fターム (1件):
引用特許:
審査官引用 (5件)
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薄膜形磁気誘導素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-276387
出願人:富士電機株式会社
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特開昭55-091804
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LCフィルタ
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-218704
出願人:株式会社日立製作所
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実装型電子回路部品
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-292509
出願人:日本特殊陶業株式会社
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特開昭55-091804
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