特許

J-GLOBAL ID：200903021490927738

静電チャック

発明者： 鳩野 広典 ,  伊藤 朋和 ,  横山 達郎 ,  森 勝彦 ,  清原 正勝 ,  北林 徹夫 ,  麻生 雄二 ,  明渡 純
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-303334
公開番号（公開出願番号）：特開2002-203893
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2002年07月19日
要約：

【要約】【課題】静電吸着力に関与するセラミック誘電体部分の膜厚が従来に比べ薄く、緻密で、熱伝導性、耐摩耗性、耐食性、汚染性などの諸特性に優れた静電チャックを提供する。【解決手段】高純度でかつ体積固有抵抗値が108〜1013Ω・cmもしくは1010〜1013Ω・cmである酸化アルミニウム誘電体層を超微粒子ビーム堆積法により電極を配置した基板上に形成した。

請求項（抜粋）：

基板と、一極以上の電極と、誘電体層とを具備する静電チャックであって、前記誘電体層は、純度が99%以上の酸化アルミニウムからなり、かつこの誘電体層の室温での体積固有抵抗値が108〜1013Ω・cmであることを特徴とする静電チャック。

Fターム (7件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA08 ,  5F031HA16 ,  5F031PA26

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-119750   出願人：京セラ株式会社
• 静電チャック及びその作製方法並びに基板処理装置及び基板搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-019462   出願人：ソニー株式会社