特許
J-GLOBAL ID：200903021517205934
パターン欠陥検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-234373
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092094
出願日： 1993年09月21日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 検査を効率良くかつ正確・高速に実行し、かつ欠陥レビューの効率化と欠陥の全体像の把握が容易なパターン欠陥検査装置を提供することを目的とする。【構成】 パターンが形成された試料10に光源1から光を照射し、その光の透過光あるいは反射光を受光し前記パターン像に対応した測定データを取得するセンサ2と、測定データの基準となる基準データと前記測定データとを比較し、この比較結果から試料10に形成されたパターンの欠陥を検出する比較回路17とを備えて成るパターン欠陥検出装置において、前記パターンの欠陥の存在する部分の座標および該欠陥の種類を記憶する記憶手段13と、前記欠陥を予め定められた所定の種類に応じて分類あるいは整理し、該分類あるいは整理結果を出力する演算手段6とを備えている。
請求項（抜粋）：
パターンが形成された試料に光を照射する照射手段と、前記試料に照射された光の透過光あるいは反射光を受光し前記パターン像に対応した測定データを取得するデータ取得手段と、前記測定データの基準となる基準データと前記測定データとを比較し、この比較結果から前記試料に形成されたパターンの欠陥を検出する比較手段とを備えて成るパターン欠陥検出装置において、前記パターンの欠陥の存在する部分の座標および該欠陥の種類を記憶する記憶手段と、前記欠陥を予め定められた所定の種類に応じて分類あるいは整理し、該分類あるいは整理結果を出力する演算手段とを有することを特徴とするパターン欠陥検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
