特許
J-GLOBAL ID：200903021564848061
フォトレジストフィルム
発明者：
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出願人/特許権者：
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公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-252946
公開番号（公開出願番号）：特開平8-095250
出願日： 1994年09月20日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：
【要約】【目的】 蛍光体の分散不良を起こさず常時蛍光体の分散安定性に優れたフォトレジスト層を供給すると共に10μm以上の硬化レジスト層を形成し、パターン形成精度にも優れ、更にはガラス等の基板への密着性にも優れたフォトレジストフィルムを提供すること。【構成】 エポキシシラン、アミノシラン、クロロプロピルシランから選ばれる少なくとも1種のシラン系化合物及び蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなるフォトレジストフィルム。
請求項（抜粋）：
エポキシシラン、アミノシラン、クロロプロピルシランから選ばれる少なくとも1種のシラン系化合物及び蛍光体を含有せしめた感光性樹脂組成物をベースフイルムに積層してなることを特徴とするフォトレジストフィルム。
IPC (10件)：
G03F 7/075 501
, C09K 11/00
, G03F 7/004 505
, G03F 7/004 512
, G03F 7/027 502
, G03F 7/028
, G03F 7/032
, G03F 7/038
, H01J 9/227
, H01J 17/04
