特許

J-GLOBAL ID：200903021606798981

プラズマ発生装置

発明者： 林 重徳 ,  中川 秀夫
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-028605
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293682
出願日： 1997年02月13日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：

【要約】【課題】 UHF帯あるいはVHF帯の高周波電界を用いながらも、処理される基板の形状や大きさについて自由度のあるプラズマ発生装置を提供することを目的とする。【解決手段】 複数の対向する電極のそれぞれには複数のアンテナが植立され、一方の電極に植立されたアンテナは他方の電極に植立されたアンテナに対して、互いに平行でかつ食い違うように配置されている。電極及びアンテナの構造は、矩形にも円形にも対応でき、処理されるべき基板の形状や大きさに応じた自由度を有する。

請求項（抜粋）：

互いに対向する複数の電極と、前記複数の電極にそれぞれ植立された複数のアンテナと、前記複数の電極の少なくとも一つに高周波信号を供給する高周波電源を備え、対向する電極の一方に植立されたアンテナが他方の電極に植立されたアンテナと実質的に平行でかつ食い違うように配置されたことを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (7件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/265 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/46

FI (8件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/31 C ,  H05H 1/46 M ,  H01L 21/265 P ,  H01L 21/302 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-294491
  
• マイクロ波プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-208774   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立エンジニアリングサービス
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-122978   出願人：日本電気株式会社, 日本高周波株式会社, 日電アネルバ株式会社
• 特開昭63-234532