特許
J-GLOBAL ID：200903021619422263

高耐熱性メソポーラスシリカ及びその製造方法

発明者：
小野 金一

小野 金一 について

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佐藤 正康

佐藤 正康 について

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大江 賢一

大江 賢一 について


出願人/特許権者：
水澤化学工業株式会社

水澤化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 郁男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-232377
公開番号（公開出願番号）：特開2000-053413
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：
【要約】【課題】 高温においても高い比表面積が維持され、耐熱性に優れたメソポーラスシリカ及びこのメソポーラスシリカを、テンプレートとなるカチオン系界面活性剤の使用量を少なくして、高生産速度でしかも穏和な反応条件で製造できる方法を提供する。【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液とカチオン系界面活性剤とを、pHが12よりも大きいアルカリ性水性媒体中で加熱混合し、得られる溶液に酸を添加してそのpHを8以上で10.5未満に調節し、次いでシリカとカチオン系界面活性剤との複合物を常圧で沈殿として析出させることを特徴とする高耐熱性メソポーラスシリカとその製造方法。
請求項（抜粋）：
シリカ源をカチオン系界面活性剤の存在下に処理することからなるメソポーラスシリカの製造方法において、ケイ酸アルカリ溶液とカチオン系界面活性剤とを、pHが12よりも大きいアルカリ性水性媒体中で加熱混合し、得られる溶液に酸を添加してそのpHを8以上で10.5未満に調節し、次いでシリカとカチオン系界面活性剤との複合物を常圧で沈殿として析出させることを特徴とする高耐熱性メソポーラスシリカの製造方法。
IPC (2件)：
C01B 33/193 ,  B01J 20/10
FI (2件)：
C01B 33/193 ,  B01J 20/10
Fターム (45件)：
4G066AA13A ,  4G066AA13B ,  4G066AA22B ,  4G066AA30A ,  4G066AA34D ,  4G066AA52D ,  4G066AB06D ,  4G066AE20D ,  4G066BA24 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA31 ,  4G066BA38 ,  4G066CA43 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34 ,  4G066FA36 ,  4G066FA37 ,  4G072AA25 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH21 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ14 ,  4G072KK15 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072MM01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM22 ,  4G072MM23 ,  4G072MM36 ,  4G072RR06 ,  4G072TT04 ,  4G072TT05 ,  4G072TT08 ,  4G072TT20 ,  4G072UU07 ,  4G072UU11 ,  4G072UU15 ,  4G072UU17 ,  4G072UU25 ,  4G072UU30
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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