特許
J-GLOBAL ID：200903021657570543

基板乾燥装置

発明者：
西部 幸伸

西部 幸伸 について

, 
磯 明典

磯 明典 について


出願人/特許権者：
芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-199118
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017463
出願日： 2001年06月29日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：
【要約】【課題】 この発明は基板4の乾燥処理により生じたミストが乾燥処理後の基板に再付着するのを防止することができる基板乾燥装置を提供することにある。【解決手段】 乾燥処理槽2を有し、この乾燥処理槽内に設けられた搬送ローラ3によって搬送される基板に、エアーナイフ7から気体を噴射して基板を乾燥させる基板乾燥装置において、上記乾燥処理槽側壁の上記気体の噴射により生じる気体の流れ方向に、この気流の流れによって生じるミストを収容するトラップチャンバ10を設けた。
請求項（抜粋）：
洗浄処理した基板を乾燥処理する基板乾燥装置において、乾燥処理槽と、この乾燥処理槽の内部に設けられ、上記基板を所定の方向に搬送する搬送手段と、上記乾燥処理槽の内部に設けられ、上記基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜するとともに上記搬送方向と逆方向に気体を噴射するエアーナイフと、上記乾燥処理槽の一側に設けられ上記エアーナイフから上記基板に向けて噴射された気体が流入するトラップチャンバとを具備したことを特徴とする基板乾燥装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
FI (4件)：
H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 G ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500
Fターム (4件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H090JB02 ,  2H090JC19
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • エアーナイフ装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-199910   出願人：島田理化工業株式会社
  • 乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-176957   出願人：シャープ株式会社

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