特許

J-GLOBAL ID：200903042638915073

乾燥装置

発明者： 佐伯 篤
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-176957
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358114
出願日： 2000年06月13日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】 被乾燥物に付着した水滴を完全に除去するとともに、パーティクル等を含むミストの再付着を防止することができる乾燥装置を提供する。【解決手段】 上流側に配置された第1のエアーナイフ10,11と、下流側に配置された第2のエアーナイフ20,21とを備え、第1および第2のエアーナイフは、搬送方向に沿って見て、被乾燥物に対して同じ方向から気体を吹き付け、かつ、平面的に見て、互いに他方の吹出口の全幅についての吹出し方向の範囲内に位置しない配置を有している。

請求項（抜粋）：

被乾燥物の搬送の上流側に配置された第1のエアーナイフと、下流側に配置された第2のエアーナイフとを備え、前記第1および第2のエアーナイフは、搬送方向に沿って見て前記被乾燥物に対して同じ方向から気体を吹き付け、かつ、平面的に見て、互いに他方の吹出口全幅についての吹出し方向の範囲内に位置しない配置を有する、乾燥装置。

IPC (6件)：

H01L 21/304 651 ,  H01L 21/304 ,  F26B 5/00 ,  F26B 15/00 ,  F26B 21/00 ,  F26B 25/00

FI (6件)：

H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/304 651 G ,  F26B 5/00 ,  F26B 15/00 C ,  F26B 21/00 Z ,  F26B 25/00 A

Fターム (14件)：

3L113AA02 ,  3L113AB09 ,  3L113AB10 ,  3L113AC46 ,  3L113AC48 ,  3L113AC49 ,  3L113AC57 ,  3L113AC67 ,  3L113BA34 ,  3L113CA06 ,  3L113CB23 ,  3L113CB28 ,  3L113DA06 ,  3L113DA24

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 基板乾燥方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-147736   出願人：日本電気株式会社
• 基板処理方法及び処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-349088   出願人：富士通株式会社
• エアーナイフ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-199910   出願人：島田理化工業株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-201666   出願人：大日本スクリーン製造株式会社