特許
J-GLOBAL ID:200903021660453450
磁性膜及び磁気デバイス
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
伊東 忠彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-269199
公開番号(公開出願番号):特開2007-081246
出願日: 2005年09月15日
公開日(公表日): 2007年03月29日
要約:
【課題】高周波数領域で透磁率が高く、磁気ヒステリシス損失が小さい磁性膜及び該磁性膜を有する磁気デバイスを提供する。【解決手段】磁性膜は、コバルト及びイリジウムを含有する合金からなる磁性粒子を含有し、コバルト及びイリジウムを含有する合金の磁気異方性定数は、負である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
コバルト及びイリジウムを含有する合金からなる磁性粒子を含有し、
該合金の磁気異方性定数は、負であることを特徴とする磁性膜。
IPC (3件):
H01F 10/16
, H01F 41/16
, H01F 41/18
FI (3件):
H01F10/16
, H01F41/16
, H01F41/18
Fターム (5件):
5E049AA04
, 5E049AA09
, 5E049BA11
, 5E049BA30
, 5E049GC01
引用特許:
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