パターン形成材料、並びにパターン形成装置及び永久パターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：廣田浩一 , 流良広 , 松田奈緒子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-200989
公開番号（公開出願番号）：特開2007-017814
出願日： 2005年07月08日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：

【課題】ソルダーレジストのような永久パターンの形成を目的として、露光感度に優れ、得られるレジスト面形状が良好で、かつ、より高精細なパターンを形成可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いた永久パターン形成方法の提供。【解決手段】バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、増感剤として酸性核を有する色素と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜100mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、増感剤として酸性核を有する色素と、を少なくとも含む感光性組成物を用いて得られた感光層を少なくとも有し、かつ、該感光層を露光し現像する場合において、該感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが0.1〜100mJ/cm2であることを特徴とするパターン形成材料。

IPC (8件)：

G03F 7/031 , G03F 7/038 , G03F 7/027 , G03F 7/004 , H05K 3/28 , H05K 3/46 , G03F 7/20 , G03F 7/09

FI (8件)：

G03F7/031 , G03F7/038 503 , G03F7/027 515 , G03F7/004 501 , H05K3/28 D , H05K3/46 T , G03F7/20 501 , G03F7/09 501

Fターム (43件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA10 , 2H025AB15 , 2H025AC01 , 2H025AC08 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025BC53 , 2H025BC74 , 2H025CA01 , 2H025CA07 , 2H025CA14 , 2H025CA18 , 2H025CA28 , 2H025CA30 , 2H025CA35 , 2H025CA42 , 2H025CA48 , 2H025CB42 , 2H025CC17 , 2H025DA17 , 2H025FA17 , 2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097CA12 , 2H097FA02 , 2H097LA09 , 5E314AA27 , 5E314BB05 , 5E314FF01 , 5E314GG04 , 5E314GG17 , 5E346AA12 , 5E346CC08 , 5E346CC52 , 5E346EE20 , 5E346EE39 , 5E346GG18 , 5E346GG28 , 5E346HH26 , 5E346HH31

引用特許：

出願人引用 (7件)

特許第3452597号公報
特許第3100040号公報
国際公開第00/79344号パンフレット

全件表示

前のページに戻る