特許
J-GLOBAL ID:200903021735428929

ロタキサン、及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 家入 健
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-235598
公開番号(公開出願番号):特開2009-067699
出願日: 2007年09月11日
公開日(公表日): 2009年04月02日
要約:
【課題】新規構造のロタキサン、及びその製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のロタキサンに係る第1の態様は、輪成分1の分子環内を、鎖状分子構造3を有する軸成分2の鎖状部分が貫通したロタキサン10であって、輪成分1は、環状ポリエーテル誘導体、環状ポリスルフィド誘導体、環状ポリエーテルアミン誘導体、又は環状ポリアミン誘導体であり、軸成分2の鎖状部分に3級アンモニウム塩を含む。また、本発明のロタキサンに係る第2の態様は、輪成分1の分子環内を、鎖状分子構造3を有する軸成分2の鎖状部分が貫通したロタキサンであって、輪成分1は、環状ポリエーテル誘導体、環状ポリスルフィド誘導体、環状ポリエーテルアミン誘導体、又は環状ポリアミン誘導体であり、軸成分の鎖状部分に3級アミンを含む。【選択図】図2
請求項(抜粋):
輪成分の分子環内を、軸成分の鎖状分子構造部が貫通したロタキサンであって、 前記輪成分は、環状ポリエーテル誘導体、環状ポリスルフィド誘導体、環状ポリエーテルアミン誘導体、又は環状ポリアミン誘導体であり、 前記鎖状分子構造部に3級アンモニウム塩を含むロタキサン。
IPC (2件):
C07D 323/00 ,  C07C 215/40
FI (2件):
C07D323/00 ,  C07C215/40
Fターム (6件):
4C022NA04 ,  4H006AA01 ,  4H006AA02 ,  4H006AA03 ,  4H006AB40 ,  4H006AC90
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献:
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