特許
J-GLOBAL ID:200903021821035816

脱硝制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 武 顕次郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-070367
公開番号(公開出願番号):特開2000-262862
出願日: 1999年03月16日
公開日(公表日): 2000年09月26日
要約:
【要約】【課題】 現時点からn時間経過後に必要な吸着NH3量をベースに制御することで、過脱硝を防ぎ、出口NOx濃度の下限からの逸脱を回避すること。【解決手段】 排ガス中のNOxに対して触媒上でNH3を注入して反応させ、触媒の出口NOx濃度が所定範囲内に入るようにNH3流量を制御する脱硝制御装置において、触媒の入口NOx流量と、出口NOx濃度設定値とその計測値との偏差と、に基づいて現時点の必要NH3流量を求め、必要とする脱硝率が現時点からn時間経過時点に得られるように、前記必要NH3流量を補正する必要NH3流量補正器を設けること。必要NH3流量補正器は、現時点での反応NOx流量とn時間経過時点での反応NOx流量とを加算し、n時間経過時点での触媒への吸着NH3量必要量から現時点での触媒への吸着NH3量推算値を減算し、前記加算値と前記減算値に基づいて必要NH3流量を補正する補正値を算出すること。
請求項(抜粋):
排ガス中のNOxに対して触媒上でNH3を注入して反応させ、触媒の出口NOx濃度が所定範囲内に入るようにNH3流量を制御する脱硝制御装置において、触媒の入口NOx流量と、出口NOx濃度設定値とその計測値との偏差と、に基づいて現時点の必要NH3流量を求め、必要とする脱硝率が現時点からn時間経過時点に得られるように、前記必要NH3流量を補正する必要NH3流量補正器を設けることを特徴とする脱硝制御装置。
IPC (2件):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB
FI (2件):
B01D 53/36 101 A ,  B01D 53/36 ZAB
Fターム (6件):
4D048AA06 ,  4D048AB10 ,  4D048AC04 ,  4D048DA01 ,  4D048DA05 ,  4D048DA08
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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