特許
J-GLOBAL ID:200903021847613249

波長変換光学系、レーザ光源、露光装置、被検物検査装置、及び高分子結晶の加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 渡辺 隆男 ,  大澤 圭司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-230139
公開番号(公開出願番号):特開2007-047332
出願日: 2005年08月08日
公開日(公表日): 2007年02月22日
要約:
【課題】 従来の光学系よりも簡単な光学系において8倍波を形成できるレーザ装置を提供する。【解決手段】 P偏光の基本波から2倍波形成光学素子3、3倍波形成光学素子4,5倍波形成光学素子6を経由して5倍波を形成すると共に、P偏光の基本波から2倍波形成光学素子9によって、P偏光の2倍波を形成する。S偏光の基本波は、ダイクロイックミラー13により前述のP偏光の2倍波と合成され、さらにP偏光の5倍波、前記S偏光の基本波、P偏光の2倍波はダイクロイックミラー10で合成され、7倍波形成光学素子11に入射する。P偏光の2倍波と5倍波からS偏光の7倍波が形成され、S偏光の基本波と共に8倍波形成光学素子12に入射して合成され、P偏光の8倍波が形成される。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1の基本波から少なくとも一つの波長変換光学素子を経て5倍波を形成する第1の波長変換光学系と、 第2の基本波から2倍波を形成する2倍波形成光学素子と、 第3の基本波と前記2倍波形成光学素子から出射した前記2倍波とを同一光路に合成する第1の光学部材と、 前記第3の基本波と前記2倍波形成光学素子から出射した前記2倍波と前記第1の波長変換光学系から出射した前記5倍波とを同一光路に合成する第2の光学部材と、 前記2倍波と前記5倍波とから7倍波を形成する7倍波形成光学素子と、 前記7倍波形成光学素子から出射した前記第3の基本波と前記7倍波とから8倍波を形成する8倍波形成光学素子とを有してなる波長変換光学系。
IPC (1件):
G02F 1/37
FI (1件):
G02F1/37
Fターム (7件):
2K002AB12 ,  2K002BA01 ,  2K002CA02 ,  2K002EA10 ,  2K002HA18 ,  2K002HA19 ,  2K002HA20
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • レーザ治療装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-078636   出願人:株式会社ニコン
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (1件)

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